「香港飛龍」標誌 本文内容： 如果您希望可以時常見面，歡迎標星收藏哦~來源：內容編譯自eenewseurope，謝謝。據報道，初創公司Lace Lithography AS（挪威卑爾根）正在開發一種光刻技術，該技術使用向表面發射的原子來定義特徵，其分辨率超出了極紫外光刻技術的極限。Lace Litho 所稱的 BEUV 理論上可以實現更精細的特徵，支持晶體管的持續小型化並延伸摩爾定律。該公司由卑爾根大學首席執行官 Bodil Holst 教授和首席技術官 Adria Salvador Palau 於 2023 年 7 月共同創立，後者在卑爾根大學獲得博士學位，但目前在西班牙巴塞羅那運營。傳統的 EUV 系統使用 13.5nm 波長的光，通過一系列反射鏡和掩模在晶圓上形成圖案。原子光刻技術能夠實現直接無掩模圖案化，其分辨率甚至小於受波長限制的 EUV 系統所能達到的分辨率。該公司在其網站上聲稱：“通過使用原子代替光，我們爲芯片製造商提供了領先當前技術 15 年的功能，而且成本更低、能耗更低。”Salvador Palau 和 Holst 教授共同撰寫了一篇發表在《物理評論 A》上的論文，題爲《利用中性氦原子進行真實尺寸表面映射》。該論文詳細介紹了立體氦顯微鏡的實現和操作。FabouLACE 是一箇由歐盟資助的項目，旨在開發基於色散力掩模的氦原子光刻技術，其預算爲 250 萬歐元，由歐洲創新委員會提供。該項目啓動日期爲 2023 年 12 月 1 日，將持續到 2026 年 11 月 30 日。FabouLACE 採用亞穩態原子和基於色散力的掩模，可實現 2 納米工藝。歐盟委員會表示，Lace 光刻技術已獲授權在 2031 年前將該技術推向市場。與此同時，該技術的性能將由 IMEC 研究機構進行監測和驗證。NanoLACE 是歐洲早期的一箇研究項目，於 2024 年 12 月 31 日結束。該項目於 2019 年啓動，已獲得 336 萬歐元的資助，其預算爲 365 萬歐元。Lace Lithography 於 2023 年 7 月籌集了約 450,000 歐元的種子輪融資，由 Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、歐洲創新委員會、挪威創新局和挪威研究委員會提供支持。https://www.eenewseurope.com/en/lace-lithography-uses-atoms-to-go-beyond-euvl/半導體精品公衆號推薦專注半導體領域更多原創內容關注全球半導體產業動向與趨勢*免責聲明：本文由作者原創。文章內容系作者個人觀點，半導體行業觀察轉載僅爲了傳達一種不同的觀點，不代表半導體行業觀察對該觀點贊同或支持，如果有任何異議，歡迎聯繫半導體行業觀察。今天是《半導體行業觀察》爲您分享的第4103期內容，歡迎關注。『半導體第一垂直媒體』實時 專業 原創 深度公衆號ID：icbank喜歡我們的內容就點“在看”分享給小夥伴哦 (本文内容不代表本站观点。) --------------------------------- |
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